FIS4 ultraibolya hullámfront-érzékelő 200-400NM

FIS4 ultraibolya hullámfront-érzékelő 200-400NM

ABojiongFIS4 UV hullámfront-érzékelő 200-400NM egy speciális eszköz, amelyet nagy pontosságú mérésekhez terveztek a 200–400 nm-es UV és a mély UV sávokban. Az UV-fokozott detektálási modult és az UV-rezisztens optikát felhasználva az érzékelő ultra-magas 512 × 512 térbeli felbontást tart fenn, és jobb, mint a 2NM RMS fázismérési pontosság, még rövid hullámhosszon is. Egy szabadalmaztatott, véletlenszerűen kódolt rács és nagy teljesítményű rekonstrukciós algoritmus felhasználásaFIS4 UV hullámfront -érzékelőKiváló interferencia immunitást, pontos mérési teljesítményt és széles ipari kompatibilitást kínál, lehetővé téve a stabil alkalmazást számos összetett forgatókönyvben.

BojiongFIS4 UV hullámfront-érzékelő 200-400NM Bevezetés

TőBojiong  FIS4 ultraibolya hullámfront-érzékelő 200-400NM A cégünk új generációja nagy pontosságú optikai ellenőrző berendezések. Ez megfelel az ISO 9001 minőségirányítási rendszer szabványoknak, és a Kínai Metrológiai Intézet (NIM) tanúsítja. Egyéves minőségi garanciával jár. A FIS4 UV hullámfront -érzékelőEgyedülálló UV-közúti interferométer szerkezetét és nagy dinamikus optikai kialakítását használja, ami kiváló rezgésállóságot és stabilitást eredményez. További rezgésszigetelési intézkedések nélkül nagyon megismételhető és megbízható méréseket végez olyan igényes alkalmazásokban, mint például a litográfiai gép optikai kalibrálás, az UV mikromaganatok és a biokémiai tesztek. A plug-and-play művelet biztosítja a könnyű működést és a karbantartást.

BojiongFIS4 UV hullámfront-érzékelő 200-400NM Paraméter (specifikáció)

BojiongFIS4 UV hullámfront-érzékelő 200-400NM Szolgáltatás és alkalmazás

2006 óta Yang Yonging professzor a Zhejiang Egyetemen 17 évet szentelt a Wide Spectrum FIS4 sorozat fejlesztésének.hullámfront -érzékelők, egy közös út-interferometriai architektúra és valós idejű hullámfront rekonstrukciós algoritmusok alapján. Az érzékelők a következő kulcsfontosságú funkciókat kínálják:

· Nincs szükség optikai rezgés -elszigetelésre, biztosítva az erős környezeti alkalmazkodóképességet

· A kivételes pontosság érdekében legfeljebb 2nm RMS fázisfelbontás

· Az egyetlen optikai útvonal kialakítása kiküszöböli a referencia fény igényét, lehetővé téve a plug-and-play műveletet

· Kompakt tervezés az egyszerű integráció és telepítés érdekében

AFIS4 ultraibolya hullámfront-érzékelő 200-400NMA precíziós optikai feldolgozás, a védekezés és a félvezető gyártás során alkalmazott alkalmazásokra tervezték. A nagy felbontású 512 × 512 (262,144) fázispont, a 200–400 nm-es széles spektrális válasz és a 10 képkocka teljes felbontású valós idejű 3D-s kijelzőjével rendkívül megbízható hullámfront-érzékelési megoldást kínál az alkalmazásokhoz, például az optikai rendszer aberráció mérésével, optikai kalibrációjával, ostoba felületi vizsgálatával, és optikai felületi felületi elemzéssel.

BojiongFIS4 UV hullámfront-érzékelő 200-400NM Alkalmazás

BojiongFIS4 UV hullámfront-érzékelő 200-400NM Részletek

A FIS4 ultraibolya hullámfront-érzékelő 200-400NMa véletlenszerűen kódolt négyhullámú diffrakció szabadalmaztatott technológiáján alapul, lehetővé téve a valódi egynyalábú ön interferencia mérését. Ez a technológia jelentősen leegyszerűsíti az optikai út felépítését, és nemcsak a lézer fényforrásokat, hanem a széles spektrumú fényforrásokat, például a LED-eket és a halogén lámpákat is támogatja.FIS4 UV hullámfront -érzékelő Kiválóan ellenáll a környezeti interferencia ellen, és stabil mérést érhet el nanoméretű pontossággal a szokásos kísérleti környezetben, rezgésszigetelő eszközök nélkül. Összehasonlítva a Hartmann érzékelőkkel, a mikrolens -tömbök alapján, aFIS4 UV hullámfront -érzékelő Jelentős javulást ér el a többszörös teljesítmény dimenzióban: magasabb fázispont felbontás (akár 262 144 pontig), szélesebb spektrális adaptációs tartomány, nagyobb mérési dinamikus tartomány és nyilvánvaló előnyök az átfogó költségteljesítményben.

1. ábra. A fázis képalkotó alapelve négyhullámú oldalsó nyírási interferencia alapján véletlenszerűen kódolt hibrid rács (REHG) segítségével.

2. ábra.

AFIS4 hullámfront érzékr Erőteljes és nagyon sokoldalú precíziós eszközként jelent meg a tudományos kutatásban és az ipari ellenőrzésben, kompakt szerkezete, magas környezeti robusztussága, kiváló időbeli felbontás és a meglévő mikroszkópos rendszerekkel való szoros kompatibilitás miatt. Kezdetben elsősorban a hagyományos optikai műhelyteszt -tesztelési forgatókönyvekben használták fel, beleértve az optikai elemek felületi profilozását, a lézernyalábminőség értékelését és az adaptív optikai rendszer korrekcióját. Manapság az alkalmazás hatálya jelentősen kibővült, magában foglalja a különféle élvonalbeli mezőket, például az orvosbiológiai képalkotást, a nanorészecskék lokalizációját, a metasurface jellemzését és akár a hőmérséklet-gradiens mérését is.

AFIS4 hullámfront -érzékelő Nagyon integrált kialakítású, amely lehetővé teszi az egyszerű integrációt a különféle mikroszkópos platformokkal a gyors telepítéshez. Kiváló anti-vibrációs teljesítmény biztosítja a stabil interferometrikus mérési pontosságot és az ismétlődőséget még durva környezetben is. Az eszköz támogatja az egy expozíciós hullámfront megszerzését, megbízhatóan rögzítve a gyors dinamikus folyamatokat az átmeneti jelenség kutatásához. Az orvosbiológiai alkalmazásokban az FIS4 sikeresen lehetővé tette a címkevíz-mentes, nagy felbontású valós idejű képalkotást-beleértve a COS-7, HT1080, RPE, CHO, HEK és neuronsejteket-, amely egy hatékony eszközt jelent a sejtdinamikai vizsgálatokhoz.

Ezenkívül aFIS4 hullámfront -érzékelő Támogatja a fázis retardációs képalkotást, amely nagy kontrasztú képeket generálhat anizotróp biológiai szövetekről és szubcelluláris struktúrákról, például kollagénszálakról és citoszkeletális hálózatokról. Több spektrális és interdiszciplináris kutatás. Az utóbbi években,    FIS4 hullámfront -érzékelő Fontos alkalmazásokat talált az új anyagok kutatásában, például a metasurface modulációban és a kétdimenziós anyagok optikai tulajdonságainak jellemzésében, amelyek teljes mértékben tükrözik annak változatos értékeit és potenciálját a fejlett optika és az anyagtudomány területén.